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離子去膠機

更新時間:2019-08-30點擊次數(shù):300

離子去膠機 型號:PR-3

通過等離子體方法,對陶瓷片、硅片等襯底材料圖形上的光刻膠進行干法去除。設備為單室真空系統(tǒng),主要由真空系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、電氣系統(tǒng)、射頻電源系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)、報警系統(tǒng)等部分組成。  
射頻電源采用RF500W電源控制。  
氣路系統(tǒng)采用兩臺浮子流量計控制氣體進氣。 
  腔室結構:臥式、純石英 
  真空室規(guī)格:F210´300mm 
  限真空:1Pa(環(huán)境濕度≤55%) 
  真空系統(tǒng):機械泵 
  大裝片直徑: F4英寸 
   大裝片容量:4英寸 25片/爐 
  去膠速率: ~500A/min 
  去膠不均勻性:≤±5% (φ4吋范圍內(nèi)) 
  操作方式:手動方式 
用戶可選配全自動控制方式

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